В мире полупроводников компания ASML занимает лидирующие позиции, хотя её имя малознакомо широкой аудитории. Тем не менее, именно её литографические машины лежат в основе большинства современных чипов. Теперь на горизонте появилась американская стартап-компания Substrate, готовая бросить вызов этой голландской монополии.

Substrate разрабатывает литографические машины, использующие принципиально иной подход по сравнению с ASML. Вместо экстремального ультрафиолетового излучения, стартап намерен применять коротковолновое рентгеновское излучение, генерируемое ускорителем частиц.

С момента своего основания Substrate привлек 100 миллионов долларов от таких инвесторов, как Founders Fund, и достиг оценки в 1 миллиард долларов. Компания уверяет, что её технология позволит существенно снизить затраты на литографию по сравнению с EUV-оборудованием ASML.

Кроме того, использование рентгеновского излучения с короткой длиной волны гарантирует более высокое качество печати, что также отмечают эксперты, оценившие достижения стартапа.