Осенью прошлого года Canon передала в руки специалистов Intel установку для исследования технологии нанопечати, предназначенной для производства прогрессивных чипов. Эта инновация должна снизить стоимость оборудования при создании 5-нм чипов и существенно уменьшить потребление электроэнергии. Недавно компания DNP представила новый материал, который позволит производить 1,4-нм чипы с использованием данного метода.

По информации Nikkei Asian Review, DNP разработала специализированные матрицы для создания оттисков на кремниевых пластинах, что сделает возможным их травление и превращение в полупроводниковые чипы. В 2027 году DNP планирует запустить массовое производство таких материалов, которые в сочетании с оборудованием Canon помогут в производстве 1,4-нм чипов.

Энергетические затраты на изготовление чипов могут уменьшиться на 90% по сравнению с традиционными литографическими методами. Установка для нанопечати стоит около $6,4 млн, что значительно ниже стоимости современного оборудования ASML. Интерес к технологии проявляют не только Intel, но и Samsung, TSMC, Micron и Kioxia, хотя все они привыкли к классической фотолитографии. Canon и Nikon, некогда лидеры в этой области, уступили рынок ASML, контролирующей 90% сегмента.