Китайская полупроводниковая индустрия разрабатывает обходные пути для преодоления западных экспортных ограничений, модернизируя устаревшие литографические сканеры ASML с глубоким ультрафиолетом (DUV). Этот подход позволяет эффективно использовать легально приобретённое оборудование, выявляя недостатки в существующих правилах, которые направлены на замедление технологического прогресса в стране. Запрет на продажу современных литографов и системы EUV оставляет китайские заводы с устаревшими моделями, такими как ASML Twinscan NXT:1980i. Тем не менее, они успешно применяют эти машины для производства 7-нм чипов, подходящих для современных AI-ускорителей. Инсайдеры сообщают о приобретении улучшенных компонентов на вторичном рынке, что повышает производительность и точность без нарушения экспортных норм. Крупнейшие игроки, такие как SMIC и Huawei, уже используют эти технологии, что указывает на прогресс Китая в условиях ограничений. Однако эксперты предупреждают, что устаревшее оборудование не способно полностью заменить доступ к современным технологиям от TSMC или Samsung.